蒙版（Mask）的概念在AE中非常重要，初学者对其如果没有正确深刻的理解，在后续学习与制作过程中就会经常感到困惑。所以我们需要从本质上，大方向上要把Mask研究透彻。
实则正确学习方式本质大抵也是如此，先理解概念，带着疑问去验证，往往会事半功倍。
- Mask本质上是多个顶点组成的路径（Path）,分为闭合式和开发式两种。闭合蒙版可以为图层创建透明区域。开发蒙版无法提供透明区域，但可用作效果参数，常用于文本、摄像机位置移动的路径。通常来说，两种蒙版分别通过多边形工具和钢笔工具绘制。
选中合成（Comp），双击形状工具，可快速生成合成尺寸相匹配的蒙版
另外，通过文本图层和带Alpha通道的素材（Footage）创建蒙版在效果创作中也很常见。此外根据Footage的亮度创建Mask也经常用于水墨散开转场效果。（效果可参考后续案例）
- Mask只能创建于图层（Layer）上，作为Layer的属性存在，快捷键M，和其他属性（P/S/R/T/A）一样，为图层服务。蒙版属性组属性和蒙版的移动、顶点相关操作难度不大，需要多多练习。
在Roto跟踪以及制作物品逐步消失效果，蒙版的熟练操作尤其重要。
另外，通过蒙版的羽化配合不透明度效果，制作暗角效果也是常用手段。
