inventor线性阵列,inventor阵列怎么用

1矩形阵列

“矩形阵列”可复制特征或实体并按矩形阵列样式排列结果(沿路径或从原始特征的两个方向)。

矩形阵列对话框如图所示,分为阵列实体与阵列特征。

⑴阵列特征 :形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。

⑵阵列实体 :形成实体阵列,包括不能单独形成阵列的特征及定位特征和曲面特征。

⑶阵列方向:阵列方向分为“方向1”和“方向2”,包含路径、数量、间距等项目。

①路径:选择要在其中添加引用的方向。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆或边;路径可以是开放回路,也可以是闭合回路。

②反向 :反转引用的方向。

③中间面 :创建一个阵列,从中可以在原始特征的两侧分布引用,可为任一方向单独使用中间面。

④数量 :指定列或线性路径中引用的数量,必须大于 0。

⑤长度:指定引用之间的间距或距离,或者列或行跨越的距离,输入负值则阵列方向相反。

⑷阵列尺寸及类型:用来指定引用之间的距离或长度,包括“距离”、“间距”和“曲线长度”。

①距离:指定列或行的总距离。

②间距:引用之间的间距大小。

③曲线长度:完全符合选用曲线的长度,必须大于0。

⑸求并 :阵列实体中的命令,将阵列附着到选定的实体上,形成单个或同意的实体阵列。

⑹新建实体 :创建包含多个独立实体的阵列。

2环形阵列

可将选定特征或实体的引用排列为圆弧或环形阵列,该命令可复制一个或多个特征或实体,然后以圆弧或圆形样式按特定的数量和间距排列生成的引用。

环形阵列对话框如图所示,分为阵列各个特征与阵列实体。

⑴阵列各个特征 :形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。

⑵阵列实体 :形成实体阵列,包括不能单独形成阵列的特征及定位特征和曲面特征。

⑶旋转轴:选择引用绕其重复的轴。

⑷放置尺寸:用来定义环形阵列的数量、角度和间距等。

①数量 :指定阵列中引用的个数。

②角度:引用之间的角度间距取决于放置方法。如果选择“增量”放置方式,此角度指定了两个引用之间的角度间隔。如果选择“范围”放置方法,则角度指定了阵列所占用的总面积。输入负值可在相反方向创建阵列。

③中间面:在原始特征的两侧分布特征引用。引用数量为偶数时,使用“反向”确定取得额外引用的一侧。

⑸方向:选择环形阵列旋转方向。

①旋转 :用来更改实体或特征集绕轴移动时的方向。

②固定 :用来固定实体或特征集绕轴移动时的方向。

③基准点 :用于选择重定义固定阵列的基准顶点或点。

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